iTomic Lite轻型系列原子层沉积镀膜系统采用原创设计开发的自动化平台与模块化ALD反应腔相结合，以国产化零部件为主导，可以按需配置PEALD或Thermal ALD等工艺需求。Lite ALD系列设备具有强大的兼容性，其硬件配置在保持量产机型强大功能的前提下，可满足各类晶圆尺寸（6、8英寸）量产工艺需求，同时也可满足客户高端研发和新工艺试量产需求。Lite ALD系列可广泛应用于MEMS、光电器件等泛半导体器件领域。

1、灵活兼容Thermal ALD和PEALD工艺应用；

2、自由配置半自动或全自动系统；

3、薄膜材料：Al₂O₃、SiO₂、Ta₂O₅、TiO₂、ZnO、氮化物等；

4、满足6、8英寸晶圆量产工艺需求；

5、满足高端研发客户需求及新工艺的开发和量产。